Перейти к содержанию

Хроника создаётся сообществом. Нашли неточность? Нажмите «Править» и улучшите статью, указав источник.

Репульсорное ударное поле

Материал из "WH Chronicles"






Репульсорное ударное поле
Тематическая иллюстрация
ТипЭкспериментальная система поддержки
РольПоражение приближающегося противника
СвязьИмперия Т'ау
НосителиБоевые костюмы Тау
Технологическая основаИзучение орочьих притягивающих лучей

Репульсорное ударное поле — экспериментальная система Тау, создающая разрушительную энергетическую ударную волну. Устройство предназначено для поражения противника, приблизившегося к носителю, и относится к специальному оснащению боевых костюмов.[1]

Происхождение

Основой разработки стали попытки воспроизвести технологию притягивающих лучей, обнаруженную в обломках орочьей техники. Исследования продолжались десятилетиями. Инженеры касты Земли столкнулись с устройствами, в которых не удавалось выявить последовательных, единообразных принципов конструирования.[1]

Большая часть попыток разобраться в работе трофеев не дала результата. Тем не менее Тау удалось создать действующий образец репульсорного поля, показавший высокую разрушительную эффективность на испытаниях.[1]

Действие

Генератор выпускает мощную ударную волну, обрушивающуюся на находящихся поблизости врагов. Он применяется при сближении неприятеля с боевым костюмом или его подразделением, обеспечивая дополнительное средство противодействия штурму.[1]

Оснащение боевых костюмов

Репульсорное поле относится к специальным системам, доступным пилотам ранга шас’вре и выше. Его поражающее воздействие описывается как удар гравитационной энергии: вместо обычного выстрела по удалённой цели установка поражает атакующих непосредственно возле носителя.[2]

См. также

Источники

  1. ↑ 1,0 1,1 1,2 1,3 Codex: Tau Empire, 6-я редакция, с. 73, раздел «Repulsor Impact Field». Электронная копия издания.
  2. ↑ Rogue Trader: Tau Character Guide, с. 35; Codex: Tau Empire, 6-я редакция, с. 73. Сводка и библиография: Warhammer 40,000 Wiki: Repulsor Impact Field.